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蛍光XAFSによる抗菌釉薬表面のAgの状態分析

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衛生陶器やタイルなどの水まわり陶器商品に施されている抗菌釉薬表面に微量に存在するAgの状態をAg-K およびAg-L3 蛍光XAFSより調べました。抗菌釉薬中の抗菌剤の溶出は最小発育阻止濃度以下であったことから、ある種の触媒作用によって抗菌効果が発現されると推測されました。
(実験施設:KEK PF、利用者:(株)LIXIL)
(2007年度トライアルユース)