レーザープラズマEUV光源における変換効率の改善
レーザープラズマEUV光源の評価と支援を通して、2 波長ダブルパルス照射法により、EUV光への変換効率 5.2% (世界記録)、140W@IF点(世界最高)を達成し、省エネルギーかつ低コスト化の次世代半導体製造用EUV光源開発に新たな道を拓くことができた。
(実験施設:大阪大学レーザー研、利用者:ギガフォトン(株))
(2013-2014年度成果公開有償利用課題)
放射光施設と大型レーザー施設の共用
Necessary cookies are absolutely essential for the website to function properly. This category only includes cookies that ensures basic functionalities and security features of the website. These cookies do not store any personal information.
Any cookies that may not be particularly necessary for the website to function and is used specifically to collect user personal data via analytics, ads, other embedded contents are termed as non-necessary cookies. It is mandatory to procure user consent prior to running these cookies on your website.