レーザー利用

真空紫外分光分析
眞空紫外とは通常200 nm以下の波長を言います。200 nm以下は酸素分子や窒素分子の吸収があるため大気中では実験ができないため、実験には真空環境が必要です。
短波長レーザーや、非線形材料を用いて発生させる高次光を用いることで、真空紫外光の分析に可能になります。物質の内殻励起による電子状態の解析などに活用されています。

真空紫外分光の応用
短波長の紫外線は、分子結合を切断し、DNAに損傷を起こすことができるため、強い殺菌作用を持ちます。それを活かして、殺菌装置などに活用されています。

半導体微細加工技術(リソグラフィー)への応用
最先端のリソグラフィ技術では、ArFエキシマレーザー光(193 nm)が実用化されています。今後さらなる微細化を目指して、短波長光源の研究、高次光を用いる手法、13 nm や5 nm程度の波長の軟X線を用いる手法等、様々な研究が進められています。

照射実験・アブレーション
ハイパワーのレーザー光を物質(特に有機物質、高分子など)に照射すると、多光子吸収を伴う光励起反応によって瞬間的に分解して蒸発します。これがアブレーションです。ナノ材料の加工、金属な誘電体の加工などに活用されています。